Мишень для распыления оксида гафния

Керамическая мишень HfO2

Xарактеристики

Хим. элемент: HfO2
Чистота: 3N, 4N
Форма: Плоская

Высококачественная мишень для распыления оксида гафния. Идеально подходит для нанесения пленок с высокой плотностью и стабильностью. Доступна в различных размерах и формах. Приобретите мишень для эффективного и точного распыления оксида гафния для ваших научных и промышленных проектов.

 Отправить запрос

Описание

Таргет из оксида гафния (Hafnium Oxide sputtering target) представляет собой высокочистый материал, который используется для напыления тонких плёнок в процессе распыления. Данная технология нашла широкое применение в современной промышленности благодаря выдающимся характеристикам оксида гафния, в том числе его высокой температуре плавления, хорошей химической стойкости и превосходным электрическим свойствам. Таргеты выпускаются в различных размерах и конфигурациях, что позволяет удовлетворить потребности разных типов оборудования и производственных процессов. Для производства таргетов используются только качественные материалы, обеспечивая высокий процент использования материала и уменьшение отходов производства.

Применение

Таргеты из оксида гафния широко используются в микроэлектронике для создания изолирующих слоев, в качестве шлюзового диэлектрика в полевых транзисторах с металлическим затвором, а также в фотонике и оптоэлектронике. Кроме того, благодаря высокому порогу пробоя и стабильности, оксид гафния привлекателен для использования в качестве изоляционных плёнок в энергетических устройствах, таких как конденсаторы и транзисторы высокой мощности. Продукция НАПЫЛЕНИЕ.РФ, включая таргеты из оксида гафния, гарантирует максимально эффективные результаты для вашего производства благодаря высокой степени чистоты и соблюдению точных технических стандартов.